Imec 展示首次利用 EUV 光刻技術實現的固態納米孔的晶圓級製造
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2025-12-10 ·
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這一突破為生命科學和醫療保健領域的可擴展、高精度生物傳感應用賦能
比利時魯汶2025年12月10日 /美通社/ --
- Imec 成功實現了首次在 300 毫米晶圓上利用 EUV 光刻技術進行固態納米孔的晶圓級製造。這項創新將納米孔技術從實驗室規模的概念,轉化為用於生物傳感、基因組學和蛋白質組學的可擴展平台。
- 納米孔被譽為基因組學和蛋白質組學的顛覆性技術,但直到現在,由於變異性和整合方面的挑戰,固態納米孔從未實現大規模生產。Imec 的突破為高通量、CMOS 兼容的生物傳感器陣列鋪平了道路,這有望加速個性化醫療、快速診斷和分子數據存儲的發展。
- 利用 EUV 光刻技術在 300 毫米晶圓上進行晶圓級納米孔製造,其孔徑小至約 10 納米,且在整個晶圓上具有高度一致性。該製造製程顯示出有望通過進一步增強製程整合技術,實現小於 5 納米的孔徑。電學和生物分子易位表徵顯示出高達 6.2 的訊噪比。
- 「Imec 擁有獨特的優勢來實現這一飛躍。我們可以將傳統上用於記憶體和邏輯晶片的 EUV 光刻技術應用於生命科學領域。透過利用我們的光刻基礎設施,我們證明了固態納米孔可以大規模製造,並具備分子傳感所需的精度。」Imec 第一作者兼研發項目經理 Ashesh Ray Chaudhuri 表示,「這為醫療保健及其他領域的高通量生物傳感器陣列打開了大門。」
關於 imec
Imec 是先進半導體技術領域的世界領先研究與創新中心。憑藉其最先進的研發基礎設施和超過 6,500 名員工的專業知識,Imec 推動了半導體和系統微縮、人工智能、矽光子技術、連接性和傳感技術的創新。
Imec 的前沿研究為計算、健康、汽車、能源、信息娛樂、工業、農業食品和安全等多個行業的突破提供了動力。透過 IC-Link,Imec 引導企業完成晶片之旅的每一步——從最初的概念到全面生產——提供量身定制的解決方案,以滿足最先進的設計和生產需求。
Imec 與半導體價值鏈上的全球領導者,以及法蘭德斯地區和世界各地的科技公司、初創企業、學術界和研究機構合作。Imec 總部位於比利時魯汶,在比利時、歐洲各地和美國設有研究設施,並在三大洲設有代表處。2024 年,Imec 錄得營收 10.34 億歐元。更多資訊,請瀏覽 www.imec-int.com
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