實現50%的氖氣回收率，透過氣體減量技術為穩定供應貢獻力量

日本栃木縣小山市--(美國商業資訊)--半導體微影光源製造商Gigaphoton Inc.（總部：栃木縣小山市；總裁兼執行長：Tatsuo Enami）宣布，已開發出用於ArF準分子雷射器的現場氖氣回收系統hTGM for ArF。

ArF微影在先進半導體的量產中扮演著關鍵角色。雷射的穩定運行以及稀有氣體資源的有效利用，是半導體製造商面臨的關鍵挑戰。
近年來，受地緣政治風險和全球供應鏈中斷的影響，氖氣的供需平衡波動加劇。Gigaphoton此前已透過氣體減量技術和用於KrF準分子雷射器的氣體回收系統，支援客戶維持穩定生產。此次新發表的hTGM for ArF將這一工作擴大至ArF微影領域。

hTGM for ArF可在半導體工廠內部蒐集並回收使用過的氣體。單台hTGM for ArF裝置每年最多可減少470千公升的氣體消耗，並可連結最多5台ArF雷射器。此外，其在硬體上與hTGM for KrF具有通用性，便於快速擴產。

Gigaphoton總裁兼執行長Tatsuo Enami表示：「透過將降低準分子雷射器氣體消耗的技術與現場氣體回收系統相結合，Gigaphoton旨在緩解與稀有氣體採購相關的風險、支援客戶的穩定營運，並強化半導體產業的供應鏈韌性。Gigaphoton將繼續透過先進的雷射技術和環保型解決方案，為全球半導體產業的發展貢獻力量。」

關於GIGAPHOTON

GIGAPHOTON成立於2000年，是提供半導體微影用KrF和ArF準分子雷射光源的領導廠商。GIGAPHOTON透過先進的雷射技術，協助全球半導體製造商實現更高的生產率、更卓越的品質和更永續的製造。其全球服務網路提供客戶至上的支援，致力於為全球半導體製造商充分提高裝置可用性並保障穩定的生產運行。

憑藉在雷射與微影技術方面的專長，GIGAPHOTON正將其能力從半導體微影擴大至新的領域，包括EUV光源，以及用於先進封裝和先進材料加工應用的準分子雷射器。

如欲瞭解更多資訊，請造訪https://www.gigaphoton.com

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